第1038章
“EUV極紫外技麼......”
聽到這個無比悉的名詞，楚揚神微微有些複雜，勾起了上一世的一些回憶。
現在這個時候市場上主流的刻機裝置大多是採用了DUV深紫外技，這種技目前已經十分，但限於深紫外的波長尺寸原因，所以DUV技的極限僅可以生產出20奈米以上的晶片。
而在兩年前，風車國的斯麥爾公司卻是率先攻克了更為先進的EUV極紫外技！
其新技所採用的極紫外在波長尺寸方面備極大的優勢，遠遠小於之前深紫外的波長尺寸，所以完全可以生產出尺寸更小的半導晶片！
這個訊息一經發出，對於全球刻機裝置市場，直接帶來了十分巨大的衝擊！
也正是這項技的突破，讓米國控制的斯麥爾公司在整個全球刻機領域壟斷了足足十幾年！
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