就在幾天前的全球SPIE微刻會議上，T做出研發報告157n沒實驗的結果。
“在去離子水（純化水）狀態下的浸沒實驗，157nUV依然有著在純氮環境下的諸多問題無法解決。然而對於193n曝是足夠明的，在193n沒的況下157n題常見的普遍困難都不存在，幾乎等同於現今於乾式介質中193n進式刻機效果。”
T的這份報告，讓現場與會的全球微影領域的頂尖大拿們紛紛失不已，也就是在這個報告出來了以後，這幾天世界微刻領域對浸沒式刻技紛紛發表了類似於‘至現今技還不’的觀點。
這個觀點，有著這些微刻領域專家們的真實的想法，更有著Nikon和Canon為了能繼續保持在這個領域的權威和壟斷，以及已經砸進去幾十億元的遊說和新聞引導。
在這個會議上，林博士也參加了這場會議，會議的主持方要求他發言‘浸潤式微影技’。
“由於NA已經大於0.9，並且隨著NA的進一步增加而回報遞減，浸沒式刻可能是額外節點的關鍵。浸沒式刻的關鍵是有在學波長中有足夠的，並且對鏡和抗蝕劑表面是惰的。開始研究浸沒流是相對便宜的。一旦確定了流，就必須解決許多問題；即，抗蝕劑的氣，曝或掃描過程中流折率的不均勻、流的導致的掃描速度減慢，以及溼環境的混。——”
這時候趙長安手裡面拿的一份檔案，就是在這次全球SPIE微刻會議上，各個專家級權威的發言。
其中他看了林博士的發言的時間最長，對於別的專家的發言，基本上都是快速的瀏覽。
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