雖然刻機已經研發功了，可一想起過程，黎廣瀾依舊激滿滿：“這是我們集團第一款，也目前咱們國家當時第一款有完全智慧財產權的刻機，從源、到鏡頭，再到工件臺、測量裝備，無不凝聚著技人員的汗水……”
一談起刻機的研發過程，黎廣瀾的話匣子就關不上了，看得負責拜訪的記者，都有點容了:這老爺子，太有活力了！
當然，拜訪也會有重點。
出門的時候，電視臺的領導已經圈定了問題的範圍，比如193奈米刻機的後續產品，再比如，黎廣瀾在釋出會上放出來的一奈米的大衛星……
“黎院士，我記得您在星瀚集團新品釋出會上，提到了一個問題，集團公司正在進行1奈米刻機的研發？”
“對！”黎廣瀾神凝重地點了點頭，“我們在研發更高階，像是65奈米、45奈米，乃至二十三奈米刻機的時候，發現度到了一定程度之後，就很難再有提升，零件的度，鏡片的加工，都會影響產品的度……”
“因此，我們的技人員另闢蹊徑，想出了NIL刻工藝，相比於DUV工藝，NIL刻工藝無疑更有作，使用電子束雕刻掩版……”
雖然世界上大多數的刻機研發人員，都知道紫外線刻機的“進階”過程：不斷減源的波長，這樣的源，經過鏡頭系統的折之後，就能在微米乃至奈米尺度加工晶片。
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