戰神圖譜_第536章 裂隙微光(1)

作者:汴梁的夏大夫·6個月前

升降平臺緩緩上升,將B7層那令人窒息的和怪的腥臊氣息隔絕在下。觀察廊道上,維克多和凱斯似乎還在進行簡短的流,並未立刻跟上。

平臺上,氣氛依舊凝滯。

沈翊臉依舊帶著一“恰到好”的蒼白,呼吸略顯急促,彷彿還未從剛才近距離面對“暴Ⅶ型”的神衝擊中完全恢復。他靠在冰冷的金屬牆壁上,微微閉眼,像是在平復心跳。

基因碎片初步分析完...“超速再生(高階)碎片x3”...“能量吸收(中級)碎片x2”...“未知外源序列碎片x1”(無法解析,需更高許可權或更多樣本)...“生脈衝能量結構碎片x1”...

警告:碎片蘊含強烈生本能及神汙染殘留,需進行深度純化方可安全鑲嵌。純化預計消耗圖譜能量:35%。

圖譜能量剩餘:219%。

模擬戰場(輕度),模擬純化過程及鑲嵌後效果預估...

模擬結果:純化功率99.8%。鑲嵌後預估提升:細胞再生速度+300%,能量轉化效率+45%(對同源能量效果翻倍),骨骼度及強度微量提升。獲得被天賦“中級再生強化”、“能量汲取(初級)”。

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