新立電子研發的最新型的DUV刻機己經有了重大的突破，預計到2006年7月，就可以推出一款可以生產110奈米產品的最新銳的刻機。
這一次突破，關鍵不在其他地方，而是在於可利爾材料的技有了巨大的進步。
他們在絕對的鏡片技上有了巨大的突破，功地找到製造超純淨鏡片的方案。
到時候理論上他們可以製造出55奈米的晶片。
所以，李閱在智慧手機的樣機出來後，卻不急於宣佈這一訊息，而是讓他們申請相關的專利，佔據專利優勢，然後等待刻機的突破。
到時候他們可以用度更高的一百奈米以下的晶片來作為智慧手機的大腦，讓它的運轉更加的靈活，更加的智慧化。
手機的樣機，李閱也是試用過，在他看來這距離他前世的技差了無數倍。
可是對於這個時代的科研人員來說，它仍舊是科技的最新造，是讓所有研發人員認定它是最前沿科技，改變未來科技發展的頂級科技造。
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