只是後面國舉步維艱，無奈變革，才有了後面的起直追。刻機研發團隊並沒有放棄。他們憑藉著堅韌不拔的毅力和對科技的無限熱，不斷攻克技難關，取得了長足的進步，他們的晶片也從無到有，自力更生，走到國際先進，不再被卡脖子！
後世記憶中，姜競株對刻機雖然沒有主要研究，但是作為後世發展重中之重的件兒，自然也不陌生。
刻是過曝在矽晶圓上的掩版上印製一些更細的圖形，所以又稱為掩對位曝機。
晶片的製作極其複雜。上面的線條都是以n單位的。普通的刻刀材料本無法在晶片上作，於是刻機誕生了。
同時，刻機是大規模積電路生產的核心裝置，一般採用紫外線將刻版的圖案轉移到晶圓在表面的刻膠上，晶圓是製作晶片的基板，是後續工作要完的基礎。
它結合了數學、學、流力學、高分子理與化學、表面理與化學、儀、機械、自化、和影像識別···從理論到技，都代表著簡段科研技集大融合之作，這不是一臺普通機，而是一個諾大的系統工程。
整合線路晶片是他們必須得攻克的新技，想要達這個目標，刻機的改進，是首要前提條件。謝，意外覺醒前世記憶，很多在這個時候渺茫難測，困擾重重的技，在後世資訊大發，有不都是公開資訊。
哪怕沒有詳細的技資料，但是那些明確技，已經可以作為方向的指引。
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