有人面難地擔憂道。
林南皺起眉頭，看向裝置組的主任工程師問道：「蔡司鍍機在恆溫恆溼環境下，能不能把度穩定控制在0。05到0。1奈米之間？」
裝置組的主任工程師想了想，非常嚴謹地回答道：「連續沉積10層鉬矽，厚度誤差最小0。04奈米，最大0。09奈米，剛好能滿足方案要求。
但問題是，每次換靶材。調整雷功率時，誤差會出現0。12到0。15奈米的波，80次沉積下來，累積誤差可能會超標。」
林南思索片刻，給了一條解決思路：「那就加一道即時校準的流程，演算法組先開發一套厚監測程式，跟鍍機的測聯，每沉積10層，就自暫停，用電子顯微鏡掃描厚。
據實測資料調整下一的雷功率和沉積時間，把單次誤差控制在0。05奈米以。
另外，在鍍機周圍加一圈恆溫罩，避免溫度的負面影響。」
其他人聞言，頓時豁然明悟。
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