次日清晨，楚千瀾驅車抵達深藍半導。
二號生產樓的45奈米刻裝置正有條不紊地運轉，淡紫的極紫外束在晶圓表面勾勒出細紋路，而隔壁的28奈米刻產線則被安保守住了出口，空氣中瀰漫著張而肅穆的氣息。
王世傑、張北早已等候在觀察窗前，臉上難掩興與忐忑。
看到楚千瀾走來，兩人立刻迎了上去。
“楚總，裝置已完最後校準，源功率穩定在±0.2%，工作臺定位度達±0.001微米，各項引數均優於設計標準。”張北遞上資料平板，聲音帶著抑制不住的抖。
楚千瀾目掃過螢幕上跳的即時資料，微微頷首：“開始流片吧，重點監測良率與穩定。”
王世傑抬手示意，技人員立即按下啟按鈕。28奈米刻裝置發出低沉的嗡鳴，傳送臂準抓取矽晶圓，緩緩送預理模組。
極紫外源投出比45奈米裝置更細的束，在晶圓表面刻畫出複雜的電路紋路，每一道線條都銳利如刀，誤差控制在奈米級。
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